送交者: NF 于 January 22, 2003 15:00:37:

回答: 听一位化学前辈说过， 由 大布苏 于 January 22, 2003 04:54:03:

所以处理氧化硅表面不能用HF，而是用稀盐酸，是一个表面算化的过程。

所用有机硅化物是R3-SI-CL，与HO-SI反应生成R3-SI-O-SI和HCL。所以要在通风处做，不想讲得太清楚，可别再家里试：)))

另外，浓HF水溶液一般为35%。纯HF沸点是19度，室温下不是液体。

• 多谢农兄：)) - 大布苏 (498 bytes) 22:52:32 1/22/03 (2)
  • 好多基本概念都忘了，是应该考考：))) - NF (145 bytes) 23:22:46 1/22/03 (1)
    • 有道理，谢！ - 大布苏 (0 bytes) 23:27:53 1/22/03 (0)

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